quarta-feira, 24 abril 2024

MAC abre inscrições para interessados em oficina gratuita

Aulas serão teóricas e práticas, com o objetivo de mostar alternativas para um novo “olhar fotográfico” 

Aulas acontecem no CCL, em Americana (Foto: Divulgação / PMA)

O Museu de Arte Contemporânea de Americana está com inscrições abertas para a “Oficina de Enquadramento e Composição Fotográfica – Desobedecendo às Regras”, ministrada por Melissa Szymanski. A atividade faz parte do Programa Pontos MIS, que acontece em Americana por meio de parceria entre a Secretaria de Cultura e Turismo e o Museu da Imagem e do Som de São Paulo.

A oficina vai acontecer no dia 14 de julho, das 14 às 18 horas. Estão sendo oferecidas 25 vagas, e podem participar interessados a partir de 15 anos, que deverão inscrever- -se no MAC pelo telefone (19) 3408-4825, pelo e-mail mac@americana. sp.gov.br, ou diretamente no museu, que fica no Centro de Cultura e Lazer (CCL), à Av. Brasil, 1293, Jardim São Paulo.

A oficina teórica e prática tem o intuito de mostrar uma alternativa na escolha do olhar fotográfico. Por meio de exemplos que fazem um contraponto das referências clássicas ilustradas, os alunos terão mais repertório e caminhos para escolher nas fotografias, contribuindo para o desenvolvimento tanto de um trabalho autoral como nos registros de viagens e nas fotos do dia-a-dia.

Fotógrafa formada e pós-graduada pela Faculdade Santa Marcelina (FASM), Melissa Szymanski participou de diversos cursos em Milão nas áreas de Fotografia de Moda e Still Life. Trabalhou na Revista Italiana Moda Pelle, na execução de editorias e publicidade. Atuou como docente de Fotografia na FASM, Instituto Europeo di Design (IED) e ministrou durante sete anos aulas de fotografia na Escola São Paulo nas áreas de Moda, Noções Básicas e Intermediário. Coordenou o Workshop de Fotografia: Di Cavalcanti, Anita Malfatti e Tarsila do Amaral pela Oficinas Culturais do Estado de São Paulo. Atualmente é docente na Secretaria de Cultura de São Paulo. 

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